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【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，?泛應(yīng)?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。半導體溫控機 元器件循環(huán)制冷機

【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，?泛應(yīng)?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。Chillers半導體控溫裝置 模塊循環(huán)制冷機

模塊化數(shù)據(jù)中心溫控-冷卻液冷卻單元適用于半導體測試，電子設(shè)備恒溫測試，冷卻服務(wù)器配套基礎(chǔ)設(shè)施，及其他流體控溫場所。是具備獨立的換熱系統(tǒng)、供電系統(tǒng)和監(jiān)控系統(tǒng)的模塊化智能設(shè)備。

【無錫冠亞】半導體晶圓快速冷卻系統(tǒng) 芯片散熱水冷機，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應(yīng)用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動泵，經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。

【無錫冠亞】晶圓冷卻腔體測溫裝置 單晶硅冷卻循環(huán)裝置，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應(yīng)用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動泵，經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。

【無錫冠亞】半導體晶圓冷卻裝置 硅片循環(huán)水冷卻機 ，冠亞制冷的半導體控溫chiller主要應(yīng)用與半導體生產(chǎn)過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制，40℃以內(nèi)加熱方式采用壓縮機熱氣加熱，半導體控溫chiller循環(huán)系統(tǒng)采用全密閉設(shè)計、循環(huán)泵采用磁力驅(qū)動泵，經(jīng)過24小時連續(xù)運行拷機。