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制冷加熱循環(huán)裝置(實驗室使用)-25~200℃

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環(huán)裝置(實驗室使用)-25~200℃

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-270
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-12-20
  • 訪  問  量:1382
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域化工,生物產(chǎn)業(yè),航天,制藥,電氣

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質(zhì)溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質(zhì)溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/



制冷加熱循環(huán)裝置(實驗室使用)-25~200℃

制冷加熱循環(huán)裝置(實驗室使用)-25~200℃

  化工加熱制冷系統(tǒng)是無錫冠亞生產(chǎn)的一種集加熱和制冷于一體的機械裝置,用來滿足不同生產(chǎn)過程的需要。反應釜用于物料之間的混合或化學反應。隨著釋放熱量或吸收熱量的過程,這部分熱量需要通過一個裝置來平衡,并保持在一定的溫度范圍內(nèi),以保證正常生產(chǎn)。

  化工加熱制冷系統(tǒng)用于反應釜中制冷加熱解決方案

  1、化工加熱制冷系統(tǒng)用于溫度控制的反應釜是一個大容量、厚壁的被控對象,因此是一個熱容量大、純滯后時間長的對象。隨著反應的進行,各傳熱介質(zhì)的傳熱系數(shù)呈非線性變化,對各種外界環(huán)境的變化較為敏感。另外,增益在反應過程中變化很大,甚至增益變化的方向也不同。而且隨著反應的進行,釜內(nèi)固體顆粒增多,釜內(nèi)傳熱系數(shù)會發(fā)生不規(guī)則變化。

  2、化工加熱制冷系統(tǒng)在采用溫控方式的反應釜反應過程中,由于化學反應放熱過程的復雜性和非線性,各傳熱介質(zhì)的傳熱系數(shù)呈非線性變化,對各種外界擾動敏感,難以控制。如果在反應過程中散熱不及時、不均勻,反應溫度會一直升高,容易因局部過熱而出現(xiàn)“飛溫"和“爆聚"現(xiàn)象。相反,如果排熱過多,會導致反應溫度一直下降,導致反應熄滅。聚合反應的主要因素是反應釜的溫度控制,溫度的變化會直接影響產(chǎn)品的質(zhì)量和產(chǎn)量,因此該過程中的溫度控制是要點和難點。

  3、化工加熱制冷系統(tǒng)反應釜控溫模式下反應過程的化學反應機理復雜,尤其是物料與能量的平衡、反應動力學等。此外,原料純度、催化劑種類、添加原料量的變化、熱水溫度、循環(huán)冷卻液流量的變化等外部條件對系統(tǒng)影響較大,難以推導出機理模型。由于化學反應放熱過程的復雜性和非線性。

  化工加熱制冷系統(tǒng)的控溫范圍為-120~+200℃,具有冷卻和加熱功能,可滿足不同需求下的不同溫度要求。采用壓縮機制冷技術(shù),制冷回路相互獨立分時段啟動,可減少對電網(wǎng)的干擾,穩(wěn)定壓縮機性能,實現(xiàn)全自動控溫,可滿足24h連續(xù)運行的要求。

無錫冠亞化工加熱制冷系統(tǒng)的加熱部分采用電加熱的形式,冷卻部分采用壓縮制冷,通過完善的系統(tǒng)組合,將兩種不同的控溫要求結(jié)合起來?;ぜ訜嶂评湎到y(tǒng)具有加熱/冷卻或加熱/冷卻功能。



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