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加熱制冷循環(huán)裝置-90℃~250℃

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷循環(huán)裝置-90℃~250℃

  • 產品型號:SUNDI-935WN
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-12-21
  • 訪  問  量:1058
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產地類別國產
應用領域化工,生物產業(yè),文體,電子,制藥



無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/




加熱制冷循環(huán)裝置-90℃~250℃

加熱制冷循環(huán)裝置-90℃~250℃


  無錫冠亞反應釜制冷加熱溫控系統(tǒng)用于制藥化工行業(yè)可以同時控制一個或多個反應釜,那么,反應釜制冷加熱溫控系統(tǒng)的使用操作規(guī)范要注意哪些呢?

  反應釜制冷加熱溫控系統(tǒng)使用時要注意以下幾項:

  1、放置環(huán)境溫差不可太大,使用環(huán)境的溫差太大,導致大量的水蒸氣。隨著時間的推移,它將加速反應釜制冷加熱溫控系統(tǒng)組件的銹,這很容易引起設備損壞。

  2、反應釜制冷加熱溫控系統(tǒng)不要靠近熱源,在地方6070cm通常應保留在兩側,這可以有助于散熱。始終支付不與一些加熱電器放在一起以避免功耗。

  3、不要頻繁切換,冬季通用加熱制冷循環(huán)一體機的溫度約為020℃,而高溫測試室的工作溫度相對較高。如果頻繁開關,則內部組件可能在高溫和低溫下被破壞。

4、不要停止,許多客戶是為了節(jié)省時間,如果他們暫時使用,他們將處于“休眠"狀態(tài),事實上,這不是科學的,這是可能影響使用壽命的,因為蒸發(fā)器大多是鋁產品,在鋁后停用壁上的有機物質是模制的,腐蝕鋁板,損壞制冷系統(tǒng),內塑料在常溫下容易老化,因此不允許高溫測試室關閉工作 。如果停用,它可更換,清潔,并將其放入通風的地方以避免陽光直射。每個月都充電,讓壓縮機在一個小時后跑半小時關閉。






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