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TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問題

簡要描述:TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問題,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-575
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-07
  • 訪  問  量:1186
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天

<strong><strong><strong><strong>企業(yè)選擇TCU反應釜溫控系統(tǒng)需要注意哪些</strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

型號SUNDI-655WVSUNDI-675WVSUNDI-6A10WVSUNDI-6A15WVSUNDI-6A25WV
介質溫度范圍-60℃~+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW5.57.5101525
制冷量 kW  AT300℃5.57.5101525
100℃5.57.5101525
20℃5.57.5101525
-20℃4.868.21225
-40℃2.33.14.87.818
-55℃0.750.91.52.86
流量壓力 max  L/min bar355060110150
222.52.52.5
循環(huán)泵冠亞磁力驅動泵
壓縮機法國泰康活塞壓縮機意大利都凌/卡萊爾/艾默生
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A/R23混合制冷劑
接口尺寸G3/4G1G1G1DN32 PN10
水冷型 W
溫度 20度
1800L/H
1.5bar~4bar
G3/4
2100L/H
1.5bar~4bar
G3/4
3000L/H
1.5bar~4bar
G1
4000L/H
1.5bar~4bar
G1 1/8
8.5m³/H
1.5bar~4bar
DN40
外形尺寸 cm55*100*17555*100*17570*100*17580*120*185100*150*185
重量kg265305340380980
電源 380V50HZ10kW14kW18kW26kW40kW

 <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問題

TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問題

  使用300℃高低溫循環(huán)一體機離不開其規(guī)范的使用操作,300℃高低溫循環(huán)一體機在銷售時會與設備出廠時相應的300℃高低溫循環(huán)一體機使用說明書相對應,用戶在使用時可事先了解下。

  高低溫300℃循環(huán)一體機能實現(xiàn)200℃高溫、-20℃低溫恒溫測試,為用戶提供熱冷卻受控、恒溫均勻的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,全量程范圍內(nèi)的溫度控制,應用于石化、制藥等化學反應過程控制,半導體擴散爐擴散過程控制,在反應釜、全自動合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

  TCU高低溫循環(huán)裝置廣泛應用于各種實驗儀器設備進行制冷加熱控溫使用,如:旋轉蒸發(fā)儀、X射線衍射儀、ICP發(fā)射光譜儀、ICP質譜儀、石墨爐原子吸收光譜儀、熒光分析儀、電子顯微鏡、生產(chǎn)試驗設備、數(shù)控機床、激光設備等。該機為一體式設備,冷凝器-壓縮機、蒸發(fā)器-循環(huán)水泵機組均安裝在同一機箱內(nèi),此類機組一般安裝在室內(nèi)。

  TCU高低溫循環(huán)裝置以冷卻劑作為傳熱介質,將其他需要冷卻的儀器或設備產(chǎn)生的熱量輸送出去,通過制冷系統(tǒng)將熱量送到設備外部,確保設備在正常溫度范圍內(nèi)工作。該裝置和儀表之間依靠裝置內(nèi)泵的壓力形成閉式介質循環(huán),通過溫度傳感器檢測介質溫度,實現(xiàn)冷卻器的控制。

  TCU高低溫循環(huán)裝置應安裝在環(huán)境良好的實驗室內(nèi);無錫冠亞TCU高低溫循環(huán)裝置應安裝在通風良好、無塵的穩(wěn)固地面或實驗臺面上,避免飛沫、多蒸氣及可能發(fā)生流入、流滯、泄漏氣體的地方,避免靠近可產(chǎn)生高頻設備的地方(高頻電焊機等)。

TCU高低溫循環(huán)裝置在避免頻繁使用酸性溶液和頻繁使用特殊噴霧器(含硫化物等)的情況下,從維護和安裝時的方便和方面考慮,應盡量確保在室內(nèi)機和障礙物之間有足夠的空間。

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