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簡要描述：【無錫冠亞】半導體控溫解決方案主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。射流高低溫沖擊測試機 ETCU系列換熱型
產品型號：LTS-202廠商性質：生產廠家更新時間：2024-01-11訪 問 量：589| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 | 產地類別 | 國產 |
| 儀器種類 | 一體式 | 應用領域 | 化工,生物產業(yè),電子,制藥,汽車 |
主要產品包括半導體專?溫控設備、射流式?低溫沖擊測試機和半導體??藝廢?處理裝置等?設備，
?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。
半導體專溫控設備
射流式?低溫沖擊測試機
半導體專用溫控設備chiller
Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)
Chiller直冷型
循環(huán)風控溫裝置
半導體?低溫測試設備
電?設備?溫低溫恒溫測試冷熱源
射流式高低溫沖擊測試機
快速溫變控溫卡盤
數據中心液冷解決方案
| 型號 | FLT-002 | FLT-003 | FLT-004 | FLT-006 | FLT-008 | FLT-010 | FLT-015 |
| FLT-002W | FLT-003W | FLT-004W | FLT-006W | FLT-008W | FLT-010W | FLT-015W | |
| 溫度范圍 | 5℃～40℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃ | ||||||
| 流量控制 | 10～25L/min 5bar max | 15～45L/min 6bar max | 25～75L/min 6bar max | ||||
| 制冷量at10℃ | 6kw | 8kw | 10kw | 15 kw | 20kw | 25kw | 40kw |
| 內循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等 （DI溫度需要控制10℃以上） | ||||||
| 進出接口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 |
| 冷卻水口 | ZG1/2 | ZG1/2 | ZG3/4 | ZG1 | ZG1 | ZG1 | ZG1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| 電源380V | 3.5kW | 4kW | 5.5kW | 7kW | 9.5kW | 12kW | 16kW |
| 溫度擴展 | 通過增加電加熱器，擴展-25℃～80℃ | ||||||
射流高低溫沖擊測試機 ETCU系列換熱型
射流高低溫沖擊測試機 ETCU系列換熱型
射流式高低溫沖擊測試機給芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供精確且快速的環(huán)境溫度。
是對產品電性能測試、失效分析、可靠性評估的儀器設備。
溫度控制范圍：-120℃ 至+300℃，升降溫速率??？焖?，150℃?-55℃＜10秒，zui??流量：30m3/h；
實時監(jiān)控被測IC真實溫度,實現(xiàn)閉環(huán)反饋，實時調整?體溫度升降溫時間可控，程序化操作、?動操作、遠程控制
不同的半導體工藝需要不同的溫度控制要求。購買射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)時，需要注意設備的適用性。例如，對于一些需要快速加熱或冷卻的工藝，需要選擇具有快速響應速度的設備；對于一些需要長時間穩(wěn)定控制的工藝，需要選擇具有長時間穩(wěn)定性的設備。
4、注意設備售后服務
射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)的售后服務同樣重要。購買時需要了解供應商是否提供保修期、技術支持、備件供應等方面的服務，以確保在使用過程中遇到問題時能夠得到及時解決。此外，了解供應商的信譽和口碑也是選購時需要考慮的因素。
5、考慮設備性價比
在購買射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)時，需要考慮設備的性價比。不同的設備價格差別較大，因此在選購時需要根據實際需求和預算進行權衡。在選擇設備時，需要考慮性能、可靠性、適用性、售后服務等因素，以確保選購的設備能夠在滿足生產工藝要求。
總之，在購買射流式制冷加熱控溫系統(tǒng)時需要注意以上幾點。通過了解設備性能參數、可靠性、適用性、售后服務及性價比等方面的信息，可以選購到適合且可靠的設備，為半導體生產提供穩(wěn)定的溫度控制支持。
