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淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller

簡要描述:【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller

  • 產(chǎn)品型號:LTS-202
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-11
  • 訪  問  量:430
詳情介紹
品牌冠亞制冷冷卻方式水冷式
價格區(qū)間10萬-50萬產(chǎn)地類別國產(chǎn)
儀器種類一體式應(yīng)用領(lǐng)域化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥,汽車



無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備,

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。




【 冠亞制冷 】半導(dǎo)體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品:

半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測試機(jī)

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測試機(jī)

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內(nèi)循環(huán)液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進(jìn)出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴(kuò)展通過增加電加熱器,擴(kuò)展-25℃~80℃





淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller

淺溝道隔離槽刻蝕雙通道chiller


  金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller是一種在許多領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用的控溫設(shè)備。其核心作用是提供穩(wěn)定的冷卻效果,以滿足各種設(shè)備或工藝過程對溫度控制的需求。

  在電子設(shè)備領(lǐng)域,金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller的作用十分重要。例如,在數(shù)據(jù)中心,為了保證服務(wù)器和其他網(wǎng)絡(luò)設(shè)備的正常運(yùn)行,需要保持設(shè)備溫度穩(wěn)定。金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller可以通過準(zhǔn)確的溫度控制,確保設(shè)備在適合狀態(tài)下運(yùn)行,從而提高設(shè)備的可靠性和使用壽命。

  在制造業(yè)中,金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller也發(fā)揮著作用。例如,在塑料制品的生產(chǎn)過程中,模具的溫度需要準(zhǔn)確控制。使用這種冷水機(jī)可以確保模具在適合的溫度范圍內(nèi),從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

  此外,金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller在生物實驗室中也得到廣泛應(yīng)用。在這些場所,實驗設(shè)備的溫度需要準(zhǔn)確控制,以確保實驗結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。這種冷水機(jī)能夠提供穩(wěn)定的冷卻效果,為科研工作的順利進(jìn)行提供有力保障。

  金屬硬掩膜刻蝕單通道chiller在許多領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用,其作用在于提供穩(wěn)定的冷卻效果,以滿足各種設(shè)備或工藝過程對溫度控制的需求。



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